国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，泽攸科技联合松山湖材料实验室开展的全自主电子束光刻机整机的开发与产业化项目取得重大进展，成功研制出电子束光刻系统，实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。

　　电子束光刻是利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程。而产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的仪器就叫做电子束光刻机。它是推动我们当前新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域的重要手段之一。此前，全球电子束光刻机市场高度集中，主要由美日企业垄断，我国尚未掌握该领域核心技术，装备长期依赖进口。

　　为实现电子束光刻机的自主可控，泽攸科技多年来持续积累电子光学、微纳技术、高压源及电子源技术、真空系统、自动控制、数字图像处理等多学科交叉核心技术，构建了完整的技术体系，并推出了台式扫描电镜等多款热销电子束产品。2023年3月，泽攸科技联合松山湖材料实验室共同投资2400万元，成立联合工程中心，目标是打造集科研与产业化为一体的电子束装备技术创新基地。通过深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现关键装备和共性技术的自主可控，切实提升我国在电子束加工与制备领域的整体创新能力和产业竞争力。

　　目前，泽攸科技已基于自主研制的扫描电镜主机，完成电子束光刻机工程样机研制，并开展功能验证工作。通过对测试样片的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，达到先进水平。该成果标志着泽攸科技在电子束光刻机关键技术和整机方面的自主创新能力获得重大提升。下一步，泽攸科技将持续完善电子束光刻机的性能指标，使其达到批量应用及产业化的要求。

　　相信在公司技术团队的不懈努力下，泽攸科技自主研发的电子束光刻机整机必将加速实现量产和商业化应用。这不仅将大幅降低国内高端芯片制造的装备成本，还将打破国外企业的技术壁垒，使我国拥有自主可控的电子束光刻机技术，推动国产替代，切实保障国家信息安全。